氟硅酸根离子在镀铬电解液中有什么作用?
发布时间:2015-09-03作者:来源:浏览次数:2331
答:氟硅酸根离子在镀铬过程中起着与硫酸根离子相类似的作用,除此之外,它还具有某些方面的特点。例如铬层容易钝化,在镀铬过程中因电流中断或进行二次镀铬(不另加其它措施)时,所获得的镀层为乳白而无光泽。但是在有氟硅酸根离子存在下,它具有使铬层表面活化的作用,当电流中断或二次镀铬时,仍能获得光亮的铬层。又如小零件滚镀铬,如果在一般标准镀铬液内进行,就难于获得光亮的铬层,滚镀铬液内通常含有氟硅酸根就是这个道理。
一般采用氟硅酸或氟硅酸钠来提供氟硅酸根离子。
氟硅酸根离子另一特点是能在低温(18~25℃)低电流密度(2~2.5A/d㎡)下获得光亮的铬层。当温度达45℃时,可获得光亮铬层的电流效率为19~21%,而在标准镀铬液中则为13%。
含有氟硅酸根离子的电解液,随着温度上升,其工作范围比含有硫酸根离子的电解液为宽。
氟硅酸根离子的主要缺点是对工件、镀槽、阳极的腐蚀性大,槽液维护要求高。当镀液含有3克/升以上的铁离子时,就会严重影响铬层的光泽与镀液的分散能力,降低工作范围及电流效率。因此若以氟硅酸根离子完全代替硫酸根离子的镀铬电解液,由于上述的缺陷,不能长期很好地生产。而采用氟硅酸根和硫酸根离子配合的镀铬电解液,应用较广。
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